Triclorossilano

Triclorossilano
Nomes
Nome IUPAC	trichlorosilane
Outros nomes	silyl trichloride, silicochloroform
Triclorossilano Identificadores Número CAS 10025-78-2 PubChem 24811 Número EINECS 233-042-5 ChemSpider 23196 Número RTECS VV5950000 SMILES   Cl[SiH](Cl)Cl InChI   InChI=1/Cl3HSi/c1-4(2)3/h4H Key:ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYAH
Triclorossilano Propriedades Fórmula química HCl3Si Massa molar 135.452 g mol-1 Aparência colourless liquid Densidade 1,34 g·cm-3[1] Ponto de fusão -134 °C[1] Ponto de ebulição 32 °C[1] Solubilidade em água decompõe-se violentamente na água[1] Pressão de vapor 660 hPa (20 °C)[1]
Triclorossilano Riscos associados MSDS ICSC 0591 Classificação UE Highly flammable (F+) Harmful (Xn) Corrosive (C) Índice UE 014-001-00-9 NFPA 704 4 3 2   Frases R R12, R14, R17, R20/22, R29, R35 Frases S S2, S7/9 , S16, S26, S36/37/39, S43, S45 Ponto de fulgor −27 °C Temperatura de auto-ignição 185 °C Limites de explosividade 1.2–90.5%
Triclorossilano Compostos relacionados Clorossilanos relacionados Clorossilano Diclorossilano Diclorometilsilano Clorodimetilsilano Tetrafluoreto de silício Compostos relacionados Trifluorossilano Tribromossilano Clorofórmio (triclorometano)
Página de dados suplementares
Estrutura e propriedades	n, εr, etc.
Dados termodinâmicos	Phase behaviour Solid, liquid, gas
Dados espectrais	UV, IV, RMN, EM
Exceto onde denotado, os dados referem-se a materiais sob condições normais de temperatura e pressão. Referências e avisos gerais sobre esta caixa. Alerta sobre risco à saúde.

Triclorossilano é o composto químico de fórmula SiHCl₃.Em altas temperaturas decompõem-se produzindo silício, portanto, triclorossilano de alta pureza é usado como fonte de silício muito puro na indústria de semicondutores.Em água, se decompõem rapidamente, produzindo ácido clorídrico e silicone.Por causa de sua reatividade e disponibilidade, é frequentemente usado na síntese de compostos orgânicos contendo silício.

Industrialmente, triclorossilano é produzido pelo borbulhamento de cloreto de hidrogênio em pó de silício a uma temperatura de 300Cº.

Si + 3 HCl → HSiCl₃ + H₂

Um reator propriamente desenhado pode ter um rendimento de 80-90%.Os produtos secundários em maior número são tetracloreto de silício(SiCl₄), hexaclorodissilano(Si₂Cl₆),e diclorossilano(SiH₂Cl₂), dentre os quais o triclorossilano pode ser separado por destilação.O processo reverso é usado na produção de silício de alta pureza.

Triclorossilano é o ingrediente básico na produção de silício policristalino.

• Semiconductors: Silicon: Substrate Manufacture: Polycrystalline Silicon Production

• Polysilicon Plant in India.

Referências

Parte ou a totalidade desta página foi traduzida a partir de «en:Trichlorosilane» da Wikipédia noutra língua em 2011-12-15.